磁控溅射台-招标公告
招标项目所在地区:重庆市
一、招标条件
本磁控溅射台,已由项目审批/核准/备案机关批准,项目资金来源为/。本项目已具备招标条件,现进行公开招标。
二、项目概况和招标范围
项目规模:/ 。
招标内容与范围:本招标项目划分为标段1 个标段,本次招标为其中的:
001 第1包
三、投标人资格要求
001 第1包:
3.1法人要求:本次招标要求投标人为独立法人单位,并具有与本招标项目相应的供货能力。
3.2 业绩要求:投标人应提供2018年至今磁控溅射台产品的销售证明,提供合同复印件,内容应能体现甲乙双方盖章页、标的物名称及型号、制造商名称(应为本次所投产品制造商)、合同签订时间等主要内容。未按上述要求提供的业绩证明均不予认可。
3.3 其它要求:本项目接受代理商投标。投标人如果为代理商,应得到制造商同意其在本次投标中提供该货物的正式授权书。
3.4本次招标不接受联合体投标。
3.5投标人必须向招标代理机构购买招标文件并进行登记才具有投标资格。
本项目不允许联合体投标。
四、招标文件的获取
获取时间:2021年12月24日09时00分00秒---2021年12月31日17时00分00秒
获取方法:www.dlztb.com
五、投标文件的递交
递交截止时间:2022年01月18日09时30分00秒
递交方法:/
六、开标时间及地点
开标时间:2022年01月18日09时30分00秒
开标地点及方式:重庆市
七、其他公告内容
1. 招标条件
本招标项目磁控溅射台,招标项目资金来自自筹资金,出资比例为100%。该项目已具备招标条件,现对磁控溅射台采购进行国内公开招标。
2. 项目概况与招标范围
2.1招标编号:05
2.2招标项目名称:磁控溅射台。
2.3数量:1台。
2.4 主要功能要求:磁控溅射台用于陶瓷、硅等材料衬底上淀积各类功能膜层,可加工12英寸及以下晶圆,4英寸及以下陶瓷等方片,要求具有RF反溅射清洗、RF溅射、DC溅射功能,同时有氩气、氮气共两路工艺气路。具有自动上下料、自动传送、自动溅射、自动加热等功能。
2.5 交货地点:第二十四研究所指定场所。
2.6 交货期:合同生效后240天。
3.投标人资格要求
3.1法人要求:本次招标要求投标人为独立法人单位,并具有与本招标项目相应的供货能力。
3.2 业绩要求:投标人应提供2018年至今磁控溅射台产品的销售证明,提供合同复印件,内容应能体现甲乙双方盖章页、标的物名称及型号、制造商名称(应为本次所投产品制造商)、合同签订时间等主要内容。未按上述要求提供的业绩证明均不予认可。
3.3 其它要求:本项目接受代理商投标。投标人如果为代理商,应得到制造商同意其在本次投标中提供该货物的正式授权书。
3.4本次招标不接受联合体投标。
3.5投标人必须向招标代理机构购买招标文件并进行登记才具有投标资格。
4.招标文件的获取
4.1凡有意参加投标者,请于2021年12月24日至2022年12月31日17时(北京时间),登陆招标采购平台(网址:www.dlztb.com)购买并下载招标文件,现场不予受理。
4.2 招标文件售价800元,售后不退。
5.投标文件的递交
5.1投标文件递交的截止时间即开标时间(投标截止时间,下同)为2022年1月18日9时30分,地点为重庆市。
5.2逾期送达的、未送达指定地点的或者不按照招标文件要求密封的投标文件,招标人将予以拒收。
备注:公告查询以电力招标采购网www.dlztb.com为准!本网站为经营性收费网站。您的权限不能浏览详细内容,非正式会员请联系办理会员入网注册事宜,并缴费成为正式会员后方可下载详细的招标公告、报名表格等!为保证您能够顺利投标,具体要求及购买标书操作流程以公告详细内容为准
八、监督部门
本招标项目的监督部门为/。